La centrale de micro et nanotechnologie regroupe plusieurs techniques de dépôts de couches minces permettant de couvrir une grande variété de propriétés des matériaux.

– Deux bâtis de dépôts sous vide de métaux divers (Au, Ti, Al, Ni, Cr, Cu, Mo, Pt) utilisant la technique d’évaporation par faisceau d’électrons (Plassys MEB 300 et MEB 400).

– Un bâti de dépôt par faisceau d’électrons (Plassys MEB 500) pour réaliser de la co-évaporation (Tri-canons) de matériaux métalliques ou oxydes (VO2),

– Trois bâtis de dépôts par pulvérisations cathodiques DC 2″ et DC 3″ (Plassys MP 300) ainsi que DC pulsée et RF 3″ (Vinci Technologies PVD6) pour le dépôt de couches métalliques (Al, Ti, Cu, Mo, GeTe, Ti, …), nitrurées (AlN, TaN, …) et oxydées (Al2O3, Ta2O5, SiO2, ZnO,…)

– Un bâti de dépôt chimique par phase vapeur (PECVD Corial D250) de couches minces nitrurés (SixNy),

– Un bâti de dépôt de couches minces par ablation laser eximère (Compex Pro 110 Ne-KrF*) pour les multicouches et dopages (C, Ni, Ag, SiC, GeTe, Al2O3, …)

Procédés voie humide :

– Dépôts à la tournette installés sous sorbonnes ou sous boites à gants sous atmosphère inerte (dédiés à la préparation d’encres variées, basées sur des matériaux moléculaires, des polymères, des nano-objets carbonés (nanotubes, graphène, etc.) ou semi-conducteurs (nanocristaux). Le pôle est par ailleurs équipé pour la préparation des substrats (UV-ozone) ou les recuits thermiques jusqu’à 500°C (sous air et sous atmosphère inerte).

Procédés voie physique :

– 6 équipements pour l’évaporation thermique sous vide, dont 3 multi-creusets et 1 dépôt par e-beam assisté par faisceau d’ions ou IBAD pour le dépôt de métaux d’électrodes usuels (Au, Al, Ag, etc.), d’oxydes semiconducteurs inorganiques (ZnO, MoO3, WO3, etc.), mais aussi de semi-conducteurs organiques de faibles poids moléculaires (petites molécules : C60, BCP, TPBi, etc.).

Procédés sous atmosphère inerte :

Une spécificité du laboratoire est  de posséder 4 boites à gants, dont une à humidité contrôlée, permettant de séparer le développement des procédés dédiés aux filières organiques des procédés pérovskites halogénées. Elles permettent les dépôts par voie humide, les post-traitements thermiques, les dépôts par voie physique (évaporateur thermique multi-creusets et dépôts par canon à électrons assisté par faisceau d’ions), ainsi que la caractérisation optoélectronique (source courant-tension, simulateur solaire).