Gravure sèche par plasma réactif

Nous sommes équipés de bâtis sous vide pour la gravure fluorée (SF6) de couches minces métalliques et nitrurées :

– Un bâti de gravure par plasma RIE Plassys MG 200,

– Un bâti de gravure par plasma micro-ondes Diener Pico µW

Gravure chimique humide

Une sorbonne est dédiée à la manipulation d’acides et de bases concentrées et diluées pour la réalisation de gravures humides de couches métalliques, oxydes et silicium (TMAH, HF, BOE, …).